Un nuevo método permite la fabricación directa de dispositivos de grafeno

Un equipo internacional con participación de científicos del CSIC ha ideado un método que permite la fabricación directa de dispositivos basados en grafeno. El nuevo procedimiento evita manipular este material, un paso que introduce defectos e impurezas que acaban mermando la calidad del dispositivo. Los resultados aparecen publicados en la revista Nature Communications.

El grafeno, esta a mitad de camino entre un metal y un semiconductor, se caracteriza por tener una sola capa de átomos de carbono colocados en una red hexagonal. La fabricación de dispositivos basados en grafeno no está exenta de problemas. Se lleva a cabo mediante la síntesis de una mono capa de grafeno sobre la superficie de un catalizador por descomposición química de un gas de etileno. Después se manipula la lámina resultante para separarla del catalizador y depositarla sobre el óxido deseado.

 

 

http://cienciaaldia.com/2014/12/un-nuevo-metodo-permite-la-fabricacion-directa-de-dispositivos-de-grafeno/

Xoán Loureiro Salvadores 1º de bachiller B

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